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OTL1200 单温区PECVD系统

OTL1200 单温区PECVD系统

OTL1200

产品介绍

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OTL-PECVD-1200PECVD系统,由OTL1200真空管式炉、石英真空室、射频电源、GX供气系统、抽气系统、真空测量系统组成。

主要特点:

1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低

3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小

4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5、广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

OTL-PECVD-1200 PECVD系统以优质电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温仪表,过零触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,炉管两端能不锈钢法兰密封,不锈钢法兰

安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能、价格优惠等优点。  

开盖保护系统:该炉安装有行程开关,当炉盖打开时会自动切断电源,有效地保证使用者的安全。

                                

(1)、表面温度高可达1420℃

(2)、表面为不锈钢色(非常亮、客户识别时要注意)、不会生锈,使用时间再长都不会掉渣。

(3)、Kanthal电阻丝资料下载

(4)、Kanthal电阻丝网站:www.kanthal.com

(5)、电阻均衡、温场均衡性好                                                                                                         


当电路过流或漏电时,空开会自动断开。


该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出

 

1、真空吸滤成型的优质高纯氧化铝多晶纤维固化炉膛。

2、采用日本技术成型。

3、炉膛里电阻丝的间距和节距全部按日本最优的热工技术布置、经过热工软件模拟温场

4、采用4周加热,温场更加均衡

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